1978.10 - 1983.7 中国科学技术大学 半导体 学士
1983.9 - 1986.11 中国科学院半导体研究所 电子工程 硕士
1995.1 - 1999.4 美国德克萨斯大学奥斯汀分校 电子工程 博士
闫江
教授，博导，国家特聘专家。
现任北方工业大学高精尖创新研究院院长。在微电子领域有超过30多年的工作经历。先后任职于中科院微电子研究所，美国德克萨斯大学微电子中心和英飞凌（Infineon）公司美国研发部。曾参与和负责了与IBM, 韩国三星, Globalfoundries, 日本东芝, STMicroelectronics和台湾联华电子（UMC）等公司的联合研发项目。2009年回国后任职于中国科学院微电子研究所，主持参与了多项重要科研及产业化项目，包括二项国家重大科技专项课题：“22纳米关键工艺技术先导研究与平台建设”和“16/14nm基础技术研究”。
曾获得中国科学院2014年度杰出科技成就奖和北京市2016年度科学技术奖一等奖。主持参与了多项国内外重要科研项目，承担了2项国家重大科技专项课题，获得40余项美国授权发明专利，50余项中国授权发明专利，发表学术论文超过60篇。主持若干项国家和北京市自然科学基金面上课题。
个人简历
教授课程
人工智能技术导论 学科前沿 半导体工艺技术
主要研究领域和方向
人工智能芯片技术及其应用
近五年的荣誉成果
1、 Nan Zhang , Jing Zhang，J. Yan et al. O2 plasma treated biosensor for enhancing detection sensitivity of sulfadiazine in a high-к HfO2 coated silicon nanowire array. , Sensors & Actuators:B. Chemical 306(2020) 127464 SCI 一区
2、 Zhiyuan Xu, Qingyi Meng, Qiang Cao, Yushi Xiao, Huan Liu, Gang Han, Shuhua Wei, Jiang Yan, and Lidong Wu*.Selective Sensing of Copper Ions by MesoporousPorphyrinic Metal-Organic Frameworks Nanoovals. Anal. Chem., Vol. 92, No. 2, 2201-2206, 2020.SCI 三区
3、Qi Qi, Chunhui Liu, Lintao Liu, Qingyi Meng, Shuhua Wei*, Anjie Ming*, Jing Zhang, Yanrong Wang, Lidong Wu, Xiaoli Zhu, Feng Wei and Jiang Yan, Fabrication, Characterization, and Application of Large-Scale Uniformly Hybrid Nanoparticle-Enhanced Raman Spectroscopy Substrates, Micromachines 10, 282, 2019. (SCI 三区 IF:2.426)
4、Q. Zhang, H. Tu*, H. Yin*, J. Yan et al. “Influence of the hard masks profiles on formation of nanometer Si scalloped fins arrays” [J]. Microelectronic Engineering, pp.48-54, 198 (8), 2018, doi: https://doi.org/10.1016/j.mee.2018.07.001. SCI 三区
5、Q. Zhang, H. Tu*, Yin H*, J. Yan* et al. Si Nanowire Biosensors Using a FinFET Fabrication Process for Real Time Monitoring Cellular Ion Actitivies [C], 2018 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), IEEE, 2018: 29.6. 1-29.6. 4. 顶级会议论文
6、Q. Zhang, H. Tu, S. Gu, J. Yan et al. Influence of Rapid Thermal
Annealing on Ge-Si Interdiffusion in Epitaxial Multilayer Ge0. 3Si0. 7/Si Superlattices with Various GeSi Thicknesses [J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2018, 7(11): P671-P676. SCI 三区
7、Yingjie Wang, Peng He, Jing Zhang , Jiang Yan, Dmitry V. Lopaev,
Xin-Ping Qu, Mikhail R. Baklanov, A non-destructive, fast evaluation of PVD diffusion barriers deposited on porous low-k dielectrics, Microelectronic Engineering 198,22–28 (2018) SCI 四区
8、陈曦，张静, 闫江等. Si离子辐照下Al2O3栅介质的漏电机制，半导体技术，2019年07期
9、朱轩民，张静，闫江等. NH3 等离子体钝化对 Al2O3 /SiGe 界面的影响，半导体技术，第44卷，第6期
近年来主要科研项目
主持 国家自然科学基金面上项目 61874002 集成电路制造中关键图形工艺的模型研究
主持 北京市自然科学基金面上项目 4182021 图形化工艺仿真模型的研究
主持 北京市科委项目 高端芯片设计与制造关键光刻技术研究与应用
近年来出版的主要教材与专著
在研主要项目
国家自然科学基金面上项目：集成电路制造中关键图形工艺的模型研究
北京市自然科学基金面上项目：图形化工艺仿真模型的研究
北京市科委项目：高端芯片设计与制造关键光刻技术研究与应用
横向项目：BD-C5薄膜的开发
国内外学术活动